DNP、台湾に先端フォトマスクの新工場を建設
22日、大日本印刷(DNP)は、台湾の新竹科学工業園区(サイエンス・パーク)内に先端フォトマスクの新工場を建設すると発表した。
新工場は、台湾及びアジア地域における旺盛な半導体生産に対し、65nmを中心とした先端フォトマスク需要に対応するもので、建物、製造設備、付帯設備をあわせて初期資額は約200億円。今年4月に着工し、2008年5月の稼働開始を目指すという。
台湾は、最新の300mmウエハーに対応した半導体工場が世界で最も多く、今後も多くの半導体メーカーによる最先端工場の建設が予定されている一大生産地となっており、台湾を含むアジア地域のフォトマスク市場は、現在、世界市場の約1/3を占め、今後も、高い成長率が見込まれているという。
現在DNPは、65nm対応の先端フォトマスクでは圧倒的なシェアを獲得し、業界をリードしている。そうした中、多くの顧客から、安定供給と短納期対応のため、顧客企業により近い場所での製造やサポートを要望されており、65nmの先端フォトマスクの需要拡大が最も見込まれるアジア地域向けに、新たな製造工場を建設することとしたという。
DNPは、現在の日本国内製造4拠点と欧州イタリアのアグラテ工場に加え、新たにアジア市場向けの製造拠点を持つことで、フォトマスクの供給体制をワールドワイドで強化し、今後増加する65nm及び45nmフォトマスクのシェア拡大を目指していく方針。
新工場の売上は、2008年9月からの量産を見込み、半年で50億円、翌2009年度には120億円を見込んでいるという。
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